Регистрация
*
*
*

Leave the field below empty!


Ваш баланс:0

Зеленоградские предприятия НИИМЭ и НИИТМ собрали первые в России установки для ключевых операций производства микросхем


✹ В нашем городе завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и плазмохимического травления (ПХТ) — оборудование, без которого невозможно современное производство микросхем.

Кластерная архитектура позволяет объединять несколько технологических камер и перемещать пластины между ними без контакта с воздухом — под вакуумом — что считается мировым стандартом для таких операций.

НИИМЭ обеспечил инфраструктуру и испытания (включая чистые помещения и отработку процессов), а НИИТМ разработал само оборудование и участвовал в испытаниях. На фото — их руководители Александр Кравцов и Михаил Бирюков.

❗Что это даст Зеленограду

Для города это история не столько про конкретное «железо», сколько про закрепление здесь редкой компетенции по разработке оборудования для одного из ключевых процессов в микроэлектронике.

Если установки пойдут в внедрение и серию, это означает и новые заказы для зеленоградских предприятий: производство, сервис, модернизацию, обучение персонала и кооперацию с поставщиками компонентов.

👇Подробности

ПХО — это нанесение тонких диэлектрических плёнок с помощью плазмы (в промышленности близкий термин — PECVD), а ПХТ — плазменное «вытравливание» слоёв по рисунку после литографии. Это базовые операции, на которых держатся многие шаги техпроцесса: без осаждения и травления нельзя построить «слоёный пирог» микросхемы и сформировать структуры нужной геометрии.

Установки рассчитаны на обработку кремниевых пластин диаметром 200 и 300 мм и могут использоваться в линиях для выпуска микросхем по нормам до 65 нм. Полученные базовые процессы и модульная платформа — задел для адаптации под существующие линии и для движения к более современным техпроцессам, включая 28 нм.

Отдельный смысл проекта заключается в переходе на 300-мм пластины: у них примерно в 2,25 раза больше площадь, чем у 200-мм, а значит выше потенциальный выход кристаллов с одной пластины и лучше экономика производства (при прочих равных).

В пресс-релизах проекта звучит тезис, что российские организации «вошли в пятёрку компаний в мире» с компетенциями такого класса. Независимого публичного рейтинга, который подтверждал бы именно такую формулировку, в открытых источниках найти не удалось — это скорее оценка авторов проекта. При этом понятно, с каким «классом» техники сравнивают разработку: в мире такие установки для нанесения слоёв и плазменного травления на 300-мм пластинах делают в основном крупнейшие поставщики оборудования для фабрик микросхем — например Applied Materials, Lam Research и Tokyo Electron.


КОММЕНТЫ

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Leave the field below empty!

Авторизация
*
*
Регистрация
*
*
*

Leave the field below empty!

Генерация пароля