микрочипов

Зеленоградские компании НИИМЭ и НИИТМ в интересах Минпромторга завершили разработку российских установок с плазмохимическим травлением и осаждением, рассчитанных на выпуск полупроводниковой продукции по 65-нанометровым технологическим нормам. На данных установках можно производить обработку кремниевых пластин, имеющих диаметр 200 или 300 мм, с выполнением высокоточных операций, а их главной особенностью стало функционирование в вакуумной среде. Работы с......подробнее➥